近日，全球最大的獨立第三方光掩膜生產商日本凸版印刷株式會社宣布分拆旗下半導體光掩膜業務，并與投資基金 INTEGRAL合資成立一家新公司“Toppan Photomask ”。Toppan Photomask作為凸版印刷的并表子公司，將在母公司的協助下繼續拓展半導體用光罩的生產活動。同時，Toppan Photomask也將在INTEGRAL公司的幫助下，加強經營管理和公司治理體制，以期今后實現上市。

光掩膜是光刻工藝中轉移電路圖形的母版，起到光刻機與大硅片的橋梁和紐帶作用。從應用領域劃分，光掩膜在半導體、顯示面板、觸摸屏、電路板等生產均有使用，其中半導體應用占比達到60%。

隨著AI、5G等技術的不斷發展，各種市場的數字創新正在加速，全球半導體市場也在持續快速擴張，2021年全球半導體市場規模達到5560億美元。在全球半導體短缺的背景下，各半導體制造商正在積極提升其生產能力，而光掩膜作為半導體生產中不可或缺的電路母版，全球各地對其需求也空前高漲。

凸版印刷表示，由于半導體市場的快速成長，光掩膜市場已經迎來轉折點，為了不斷擴大和提升業務，在洞悉市場環境的變化和客戶趨勢等情況的同時，更需要在研發和設備等方面拓展比以往更加快速靈活的資金投入。在這樣的大環境下，凸版印刷通過公司分拆將半導體光掩膜業務剝離出來，成為獨立企業個體，可在提高經營管理自由度的同時，快速靈活地拓展符合市場需求的投資活動。

根據半導體專家莫大康的介紹，作為半導體制造過程中轉移電路圖形底片的高精密工具，光掩膜是半導體制程中非常關鍵的一環。隨著摩爾定律的演進，半導體工藝已經推進到5納米節點。由于應用在DUV光刻機中的光掩膜很難應用到EUV光刻機當中。EUV光掩膜的開發生產仍將是EUV光刻產業中的關鍵環節。在EUV光刻越來越多地應用于先進工藝的情況下，EUV光掩膜市場將呈現持續增長的態勢。

從產業鏈上來看，光掩膜行業的集中度較高。光掩膜生產應商可以分為晶圓廠自行配套的工廠和獨立第三方光掩膜生產商兩大類。凸版印刷自1961年開始光掩膜業務，是當前全球最大的獨立第三方光掩膜生產商，大約占有全球32%的第三方市場份額。其在日本、歐美和亞洲（除日本外）等地均設有生產基地。

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